KSV芬兰BAMBrewster角显微镜

KSV芬兰BAMBrewster角显微镜

KSV 芬兰BAM Brewster角显微镜

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品牌:KSV
生产厂家:KSV 芬兰
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在手动调节能满足的情况下,没有必要加装马达调节

设计优良的光学系统可以使用不太昂贵的激光器,同时又不牺牲图像质量

更加灵敏的照相机降低了对光线强度的要求

更大的数字光圈降低了对光线亮度的要求

高品质的物镜,如配有高品质的防反射涂层,最大程度地降低了对光源的要求

高品质的激光器可以在较小的总功率提高光强和面积的比率,从而避免使薄膜或基

底过热。

只用高品质的Glan-Thompson偏振器。高品质偏振器的偏振化率是10-8的,确保能

够得到最高品质的图像。

软件是用户友好的,配备高级图像处理工具,能够提供更多来自于图像的信息。

对用户友好的硬件和软件工具使仪器的安装和对准变得容易和快捷

KSV OPTREL BAM300技术参数

软件  基于Windows 2000/XP的友好的用户界面,许多控制内嵌KSV LB 分析仪上

机械结构       

角度计 易于调整,可调范围45° – 75°,精度0.01°。马达调节作为选件

分析仪/偏光器  小型高精度旋转台,易于调节

垂直升降器 BAM的高精度垂直调节。马达调节作为选件

安装桥架 灵活客户化的安装桥架,配有调水平螺丝。易于与KSV LB槽安装在一起

成像系统

照相机 计算机控制,高性能CCD照相机,768 x 576像素。变时电子快门和比例控制,CCIR(标准),EIA(选件)

图像处理 

对移动目标的连续实时监测扫描多功能的精细图像处理功能

o 改变大小尺寸

o 轮廓

o 过滤

o 背景补偿

o 更多…

图像存储在硬盘上,可存在文档或数据库中

光学器件

光源  

标配:氦氖激光器,10 mW,633 nm

选件: 20 mW 或 50 mW 绿光激光

物镜 和 视场 放大倍数 工作距离 光圈 视场其他:请咨询厂商

空间分辨 2 微米

扫描器 由于观察角度的原因,图像仅仅聚焦在视场的中心。复杂的扫描软件选件

可以完成从一系列的聚焦设置到存储已聚焦的图像

入射角     45- 75

偏光系统   高品质的Glan-Thompson偏光器

选件                              高功率激光器(绿激光20mW 或r 50mW)

图像扫描特点

马达驱动的角度调节,马达驱动的高度调节,多种尺寸和版本的LB槽

KSV芬兰QCM-Z500石英微天平分析仪

KSV芬兰QCM-Z500石英微天平分析仪

KSV 芬兰QCM-Z500 石英微天平分析仪

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KSV QCM-Z500能够测量宽范围的晶体共振频率

用户友好的智能化软件和仪器帮助操作者使用快捷

测量速度快,可以高达几百个数据点/每秒,可进行高速过程监测

极佳的温度稳定性可以在几分钟内提供可靠的数据,测量时间根据研究的时间而定,可以从几秒钟到几周时间

 
 
 
 
频率范围 
频率分辨率
最大液体灵敏度 vs 数据平均值(5M
Hz晶体)
实例,1个数据点/6秒:
质量分辨率,5 MHz晶体(Sauerbrey)
阻抗(R)分辨率(损耗,D)
测量方法
晶体       标准
            指定    
 
工作温度  
传感器有效面积
 
最大质量负荷
最大膜厚    
 
计算机接口 
电压   
样品体积  
 
 
液体流动    流动池
            其它池
多种液体自动分配器  
采样速度 
0.1 ~ 55 MHz
0.01 Hz
 
 
 
0.177 ng/cm2
0.01 Ohm (1×10-9)*
 
 
 阻抗分析
5 MHz,AT-cut
10 MHz,AT-cut
 
10 ~ 60 ℃(活性测量池温度控制)
~ 20 mm2
 
~ 0.1 mg/cm2
0.1mm (取决于材料的柔软度)
 
以太网
100 ~ 250 VAC(45 ~ 65 Hz)
300 mL (窗口池) ~ 2 mL (流动池) 
(可以提供更小样品体积的池子**)
 
静止点,批流或连续流(蠕动泵)
层流,批流或连续流
4或8种液体
几百点/秒(特殊应用)
 
 
重量及尺寸
 
流动池
 
窗口池 
 
电子单元
 
 
 
装运重量
4.75 kg,H 165 mm,W 120 mm,D 210 mm
 
1 kg,H 80 mm,W 100 mm,D 150 mm
 
4.5 kg,H 255 mm,W 157 mm,D 250 mm
 
20 kg
 
 
最大灵敏度(液体)(5 MHz晶体)
 
1个数据点 / 6秒(25℃)  
1个数据点 / 秒(25℃)         
8个数据点 / 秒(25℃)         
 
0.05 Hz,对应于0.9 ng/cm2
0.2Hz,对应于3.5 ng/cm2
0.5Hz,对应于 ~ 9 ng/cm2
 

 

*:  阻抗(R)分辨率相对应的与损耗分辨率大约为1×10-9。这个数量级比实际需要的高几个数量级,因为在液体环境中损耗观测值的范围通常为10-6数量级
 
**:更小的体积可以利用自动取样器分配到开放池来测量

KSV attensionTHETA 学接触角仪

KSV attensionTHETA 学接触角仪

KSV attension THETA 光学接触角仪

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1. 高质量照相机和光学变焦镜头;
2. 自动基线检测;
3. 全自动接触角测量;
4. 设计耐用,用户界面直观

测量范围: 0-180°, 0.01-999mN/m; 
精确度: ±0.1°,±0.01 mN/m 
分辨率: 512*480 pixels 
最大测量速度: 60……420 frames/s 
照相机: 火线连接的光学变焦数码相机 (火线连接可以让您更快速便捷的获取实验图像) 
光源:LED背景灯 

KSV attensionThetaLiteTL100光学接触角仪

KSV attensionThetaLiteTL100光学接触角仪

KSV attension Theta Lite TL100光学接触角仪

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计算机控制,结果精确.

独立的测量窗口显示接触角测量值

显示器实时显示液滴在固体表面状态的真实图像显示器

接触角测量范围:  0-180 

精确度:          ±0.1degrees     

最大样品尺寸:    无限制×150×50mm(长×宽×高)

KSV芬兰nsizer纳米粒子合成器

KSV芬兰nsizer纳米粒子合成器

KSV 芬兰nsizer纳米粒子合成器

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纳米合成器:
合成单核和多层的、窄粒径分布的量子点;
也能合成磁性、生物包裹的、或者聚合物
纳米颗粒

颗粒分析仪:
颗粒粒径和分布测定仪

KSV芬兰NIMAKNISR1界面流变仪

KSV芬兰NIMAKNISR1界面流变仪

KSV芬兰NIMA KN ISR1界面流变仪

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预测乳液、泡沫和泡沫稳定性

• 测定薄膜结构

• 测定相转变

• 实时监测表面凝胶化和网络生长

• 连续监测蛋白质吸附和变性

• 测定薄膜中缠结和氢键

动态摸量测量的下限: 0.001 mN/m

2. 频率范围: 0.01 to 10 rad/s

3. 应变范围: 3×10-4 to 1

KSV Sigma703D表面张力仪

KSV Sigma703D表面张力仪

attension Sigma 703D 表面张力仪

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便携易用于工业测量

测量室的发光二极管照明

内置搅拌器 - 无运动部件 - 测量中无磁场

内置温度和pH传感器连接器

静电消除器

对大和重样品进行测量的能力

用于定制新的测量可选件(例如Langmuir研究、高温应用、薄膜爆裂测试和X-Y样品定位)的

可移动测量室

 

最大样品重量           5 g

重量分辨率             0.01mg

最大表面/界面张力      1000 mN/m

分辨率                  0.001mN/m

密度范围                1-2200 kg/m3

尺寸(D×W×H)          24×33×62cm

重量                    20kg

电源                    85-264VAC

频率                    47-440Hz

 

KSV芬兰5000型LB膜分析仪

KSV芬兰5000型LB膜分析仪

KSV 芬兰5000 型LB膜分析仪

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KSV 5000 型LB膜分析仪,其系统复杂精致、应用操作灵活。它扩展了传统的膜天平,使其成为一种高性能的LB膜分析仪器或者一整套交替多层LB膜分析系统。
KSV 5000系统是由各模块和辅助装置组成。主框架是该系统的核心,按照要求的配置,各模块和辅助装置围绕这个框架进行组合。KSV 5000有三个基本系统,18个不同的模块和许多辅助装置,可以使您有充分的机会选择合适的仪器配置,以满足您特定的实验要求

膜天平测量范围:        0~125 mN/m
膜天平分辨率:          4 µN/m
槽表面积:              510×150 mm
亚相体积:              0.75L
亚相温控:              0~60℃,通过外部浴槽加热
压缩速度:              0.01~800 mm/min,可程序控制
选件:                  搅拌器、零级和带显微镜槽
 

最大基片尺寸                    100×100 mm

镀膜速率                        1~85 mm/min或2~170 mm/min
速率增量                        0.1 mm/min
 
 
镀膜循环次数                    1个或无限多个
臂的最大行程                    145 mm
滞后时间                        0~9999秒可调
镀膜机电机                      伺服直流电机
压缩槽表面积                    510×150 mm,带镀膜井
亚相容积                        0.95 L
亚相加热                        0~60℃,通过外部浴槽加热

  

 

KSV芬兰NIMALarge系列LB膜分析仪

KSV芬兰NIMALarge系列LB膜分析仪

KSV 芬兰 NIMA Large系列LB膜分析仪

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KSV-2000 I型结构包括:

主机

膜天平

能够均匀压缩的水槽

 

 

 

KSV2000II型结构包括:
主机
膜天平
膜沉积系统
带有浸渍井的能够均匀压缩的水槽
 

KSV-2000 III型结构包括:

主机

交替镀膜系统

带有浸渍井的能够均匀压缩的水槽

 

 

 

KSV-2000 I型:

膜天平测量范围:   0 – 250 mN/m

膜天平分辨率:     4 μN/m

有效槽表面积:     530 mm X 150 mm

亚相体积:         0.75升

亚相温度范围:     0 – 60℃

滑障压缩速度:     0.01 mm – 800 mm/min

 

KSV-2000 II型:

沉积速度:         0.1 – 85 mm/min或 0.2 – 170 mm/min

速度调节:         0.1 mm/min

沉积次数:         无限次

延迟时间:         1 – 9999秒,可调

浸渍马达:         直流伺服电机

亚相体积:         0.95升

最大基片尺寸:     100 mm X 100 mm

浸渍井尺寸:       37(W)X 116 (L) X 93 (D)mm3

沉积行程:         145 mm

(其它指标与KSV-2000 I型相同)

 

KSV-2000 III型:

槽表面积:         775 mm X120 mm,两个

亚相体积:         5.5升

运行电压:         90 – 264 V, 50/60 Hz

(其它指标与KSV-2000 I型和KSV-2000 II型相同)