KSV芬兰5000型LB膜分析仪

KSV芬兰5000型LB膜分析仪

KSV 芬兰5000 型LB膜分析仪

产品编号:
市场价:¥0.00
会员价:¥0.00
品牌:KSV
生产厂家:KSV 芬兰

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KSV 5000 型LB膜分析仪,其系统复杂精致、应用操作灵活。它扩展了传统的膜天平,使其成为一种高性能的LB膜分析仪器或者一整套交替多层LB膜分析系统。
KSV 5000系统是由各模块和辅助装置组成。主框架是该系统的核心,按照要求的配置,各模块和辅助装置围绕这个框架进行组合。KSV 5000有三个基本系统,18个不同的模块和许多辅助装置,可以使您有充分的机会选择合适的仪器配置,以满足您特定的实验要求

膜天平测量范围:        0~125 mN/m
膜天平分辨率:          4 µN/m
槽表面积:              510×150 mm
亚相体积:              0.75L
亚相温控:              0~60℃,通过外部浴槽加热
压缩速度:              0.01~800 mm/min,可程序控制
选件:                  搅拌器、零级和带显微镜槽
 

最大基片尺寸                    100×100 mm

镀膜速率                        1~85 mm/min或2~170 mm/min
速率增量                        0.1 mm/min
 
 
镀膜循环次数                    1个或无限多个
臂的最大行程                    145 mm
滞后时间                        0~9999秒可调
镀膜机电机                      伺服直流电机
压缩槽表面积                    510×150 mm,带镀膜井
亚相容积                        0.95 L
亚相加热                        0~60℃,通过外部浴槽加热

  

 

KSV芬兰NIMALarge系列LB膜分析仪

KSV芬兰NIMALarge系列LB膜分析仪

KSV 芬兰 NIMA Large系列LB膜分析仪

产品编号:
市场价:¥0.00
会员价:¥0.00
品牌:KSV
生产厂家:KSV 芬兰

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KSV-2000 I型结构包括:

主机

膜天平

能够均匀压缩的水槽

 

 

 

KSV2000II型结构包括:
主机
膜天平
膜沉积系统
带有浸渍井的能够均匀压缩的水槽
 

KSV-2000 III型结构包括:

主机

交替镀膜系统

带有浸渍井的能够均匀压缩的水槽

 

 

 

KSV-2000 I型:

膜天平测量范围:   0 – 250 mN/m

膜天平分辨率:     4 μN/m

有效槽表面积:     530 mm X 150 mm

亚相体积:         0.75升

亚相温度范围:     0 – 60℃

滑障压缩速度:     0.01 mm – 800 mm/min

 

KSV-2000 II型:

沉积速度:         0.1 – 85 mm/min或 0.2 – 170 mm/min

速度调节:         0.1 mm/min

沉积次数:         无限次

延迟时间:         1 – 9999秒,可调

浸渍马达:         直流伺服电机

亚相体积:         0.95升

最大基片尺寸:     100 mm X 100 mm

浸渍井尺寸:       37(W)X 116 (L) X 93 (D)mm3

沉积行程:         145 mm

(其它指标与KSV-2000 I型相同)

 

KSV-2000 III型:

槽表面积:         775 mm X120 mm,两个

亚相体积:         5.5升

运行电压:         90 – 264 V, 50/60 Hz

(其它指标与KSV-2000 I型和KSV-2000 II型相同)

KSV芬兰NIMAMedium小型LB膜分析仪

KSV芬兰NIMAMedium小型LB膜分析仪

KSV 芬兰 NIMA Medium小型LB膜分析仪

产品编号:
市场价:¥0.00
会员价:¥0.00
品牌:KSV
生产厂家:KSV 芬兰

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高性价比

·携带方便,安装使用简单

·亚相体积小

·便于特殊应用

·可作为理想的保留槽系统

·结构简单坚固教学应用

·可安装显微镜,Brewster角显微镜及椭偏仪等仪器

·环境及生物应用

·对称压缩

 

膜沉积系统

控制及操作:  软件控制,自动膜沉积

沉积速度:    标准范围0.1-75mm/min;  速度调节增量 0.1mm

沉积次数:    无限次

基片最大尺寸:60×30mm(100%浸渍)

浸渍马达:    直流司服马达

 

膜压测量系统

动态范围:    0-125mN/m

分辨率:      4μN/m

 

膜面积控制系统

表面积调节:   2个内部移动滑障单分子层对称压缩

压缩速度:     0.02mm-200mm/min

 

尺寸:         375×75×5mm  

体积:          0.160L带浸渍井