和光纯药工业株式会社(wako)化成品系列
介绍
日本和光纯药株式会社成立于1922年，是一家专门提供高纯度化学试剂的科技公司。旗下4个部门分别是实验试剂部，诊断试剂部，化成品部和仪器部。其中化成品部提供一系列的高纯度特种化学品供应给半导体行业和太阳能源开发行业使用。
高性能蚀刻液
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产品名称 |
特征 |
适用于 |
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混酸铝 |
乙酸/硝酸/磷酸混合液 |
Ai配线 |
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Au-Etchant |
KI/I2混合液 |
Au电极 Au Bump |
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50%ACN |
50%硝酸（IV） 氨水溶液 |
鉻涂层 |
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ITO-Etchant |
高浸润性草酸水溶液 |
ITO透明电极 |
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HHED |
混合液 |
聚酰亚胺，层间绝缘膜 |
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TWL-I & II |
Ti膜或Ti/W合金膜选择蚀刻液 I: 过氧化氢制剂 II: 碱制剂 使用时混合 |
Pb焊接-Bump工序 |
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TWL-I & II |
无铅Solder-Bump工序 |
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TWL-I & II |
Al线的接地线（Ti/W）膜 |
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SWAT-200S |
含添加剂的氢氧化钠水溶液 |
抑制胶片表面不纯物金属离子的吸附，维护表面洁净 |
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SWATch-300P |
添加剂的氢氧化钾溶液（添加剂种类不同） |
胶片制造，再生时抛光工序后的碱处理，洗涤 |
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KOH-40S |
浆料pH值调整 |
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SUN-X1200 |
具有晶体结构形成能力的氢氧化钾溶液 |
太阳能电池 |
高纯度，高性能有机酸系洗净剂
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产品名称 |
特征 |
适用于 |
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CA-HP-02 |
高纯度 2%柠檬酸溶液 |
各种洗涤剂添加剂，原料不纯物金属离子去除洗涤剂 （胶片制造，再生工程） |
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CA-HP-10 |
高纯度 10%柠檬酸溶液 |
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CA-HP-30 |
高纯度 30%柠檬酸溶液 |
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WCA-30S |
高纯度，高浸润性 |
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CIREX |
高纯度，高性能柠檬酸溶液 适用于去除不纯物金属离子 |
去除不纯物金属离子 洗净剂 Al-CMP后洗净剂 W-CMP后洗净剂 |
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CIREX-C15 |
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CLEAN-100 |
高纯度，高性能柠檬酸溶液 颗粒和不纯物金属离子经一次洗涤即可同时去除 |
CMP后洗涤剂 适合去除Cu-CMP后不纯物金属离子的洗涤剂 Cu/low-k CMP后洗净剂 |
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CAX-200 |
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CLEAN-200LK |
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CLEAN-300LK |
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WCP-1000 （Acid Type）酸性 |
高性能洗净剂 |
CMP后洗净剂 适用于去除各种缺陷失误 Cu/low-k CMP后洗净剂 |
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WCP-2000 (AlkalineType) 碱性 |
高性能非离子表面活性剂
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产品名称 |
特征 |
适用于 |
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NCW-1001 |
低温使用 |
改善溶液浸润性的添加剂 |
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NCW-1002 |
低粘性 |
各种工具的洗净剂 |
高纯度，高性能过氧化氢水
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产品名称 |
特征 |
适用于 |
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HQ |
高纯度级别，不纯物金属离子含量：max. 0.1ppb |
RCA洗涤液 各种蚀刻液原料 |
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HIRINPER-HP |
高纯度级别，不纯物金属离子含量：max. 0.1ppb 能有效抑制金属离子的吸附和污染 |
利用本液可同时洗涤去除RCA（APM）溶液中的颗粒和不纯物金属离子 |
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HIRINPER-SP |
有机光电材料，合成试剂
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Boronic Acid |
Phenanthroline |
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Azulene，Tropplone |
Anthraquinone |
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Diphenylamine |
Fluorene，Dibenzothiophene，Carbazole |
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Biphenyl，Arylamine，Arylhalide |
Polycyclic Aromatic Hydrocarbons |
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Qninoline，Isoquinoline |
Deuterated Chemical Compound |