labtch莱伯泰科超声波雾化器

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品牌:Labtech 莱伯泰科
生产厂家:labtch莱伯泰科
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labtch莱伯泰科超声波雾化器

CETAC微量雾化器 MCN MCN100型微量雾化器只需30μL/min的样品提升量就能达到常用雾化器1000μL/min的分析性能,因此,使用MCN 100只需很少的样品,非常适用于样品体积非常有限的应用领域。

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CETAC超声波雾化器
U-5000AT+为ICP-AES改善了5-25倍的检出限,使许多必须要用石墨炉AAS的分析工作就可由快速、方便的ICP-AES来完成。美国EPA的200.15方法表明配备U-5000AT+的ICP-AES能为实验室节省成本、操作简单、改进分析时间。
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CETAC微量雾化器

MCN 100型微量雾化器只需30μL/min的样品提升量就能达到常用雾化器1000μL/min的分析性能,因此,使用MCN 100只需很少的样品,非常适用于样品体积非常有限的应用领域。

U-5000AT+型超声波雾化器
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U-5000AT+型

U-5000AT+型超声波雾化器为ICP-AES 、ICP-MS 提供了更好的检出限(提高5-25倍),独有:

  • 自动调谐能量供给,确保在样品变化时仍能高效、稳定地工作
  • 高效的去溶(剂)系统
  • 为ICP-AES、ICP-MS最优化设计
  • 工作稳定、模快化设计

U-5000AT+为ICP-AES改善了5-25倍的检出限,使许多必须要用石墨炉AAS的分析工作就可由快速、方便的ICP-AES来完成。美国EPA的200.15方法表明配备U-5000AT+的ICP-AES能为实验室节省成本、操作简单、改进分析时间。

U-6000AT+型超声波雾化器/膜去溶器具有非常有效去除无机、有机样品中溶剂的能力,从而减少了这些溶剂对ICP-AES、ICP-MS的干扰,进一步提高了分析物的检测能力。

  • 惰性膜去溶器进一步去除了溶剂蒸汽
  • 进一步改善ICP-MS的检出限
  • 使ICP-AES、ICP-MS能方便分析有机样品
  • 可选择的混合气体附件
  • 模快化设计
膜去溶技术

U-6000AT+是在U-5000AT+的基础上增加了第二级去溶(膜去溶),溶剂蒸汽通过加热的、多孔渗透的PTFE膜被“穿透气”带走而去除,因此具有更高的去除溶剂效率。

改善ICP-MS干扰元素的检出限

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用ICP-AES、ICP-MS分析易挥发的有机样品

对于易挥发有机样品,超声波雾化器的冷却温度通常降至-10℃ 到-15℃,较低的温度减少了膜去溶的负载,雾化气流量 (0.6 L/min – 1.1 L/min) 、穿透气流量(1.5 L/min – 4.0 L/min) 可调以获得最佳的性能。

 
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混合气体附件

选购的混合气体附件BGX-100配备精密的质子流量控制器,为在U-6000AT+中的样品气溶胶加氧。加入的氧可以防止ICP炬管和ICP-MS样品接口上结碳,该附件建议用于诸如甲苯、己烷等无氧溶剂的分析。

 

Aridus II膜去溶雾化系统
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Aridus II膜去溶雾化系统

Aridus II膜去溶雾化系统是专为各种ICP-MS而研制开发,采用 CETAC公司最新的第二代膜去溶技术,具有如下特性:

  • 提高ICP-MS的灵敏度4~10倍以上
  • 专利的PTFE膜去溶技术,减少了溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平
  • 模块化的膜去溶设计,拆装和清洗方便
  • 带盖保护的PFA雾化室,避免静电的干扰
  • 大大改善信号的稳定性,即使是如甲醇的有机溶剂
  • 配备可选的Aspire PFA微量雾化器,样品提升量:50, 100, and 200 µL/min三种可选
  • 可与ASX-112FR微量自动进样器相配
  • 减小了ICP-MS的干扰

Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器,只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

 
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Aridus II的工作原理:

样品经雾化器雾化成气溶胶后进入120℃的雾化室,样品气溶胶保持在蒸汽状态。从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的“隔膜去溶”装置,利用“膜渗透”技术,分离样品气溶胶中的溶剂,利用一股反向的氩“穿透气”带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。从而使进入ICP的样品气几乎不存在溶剂部分,大大提高了分析的灵敏度、减少溶剂所带来的氧化物、氢化物干扰和溶剂对ICP的影响。

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Aridus膜去溶能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氯化物、氢化物的干扰。(下图为)标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce比率的比较图,该CeO/Ce比率从3%减少为0.05%。
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显著减小ICP-MS的干扰:
Aridus II膜去溶雾化系统能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。 其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。
配备Aridus II的ICP-MS检出限:(在非冷焰的条件下,ELAN6000型ICP-MS)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Li

7

0.4

K

39

8

Na

23

15

Ca

44

300

Mg

24

6

Fe

56

10

 

卓越的信号稳定性:

Aridus II的7小时信号稳定性:RSD<1%(在100%的甲醇溶液中加1mg/L的标准)

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  • 长时间稳定性:用饮用水中+0.5ppm的Pb连续测定10小时(U-5000AT+与PE 3000XL)
  • 信号稳定和冲洗时间(残留效应):用500ppm As、50ppmPb、5ppmCd
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  • 非常杰出的长时间稳定性及信号稳定和冲洗时间!
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