太阳能新产品——太阳能电池材料碱性蚀刻液：SUN-X系列

　　硅蚀刻液可令硅结晶型太阳能电池表面形成金字塔状细微纹理结构，用于降低反射率。一般作为蚀刻液的是IPA-碱混合液。不过，本公司此次开发了作为不含IPA 的太阳能电池硅片蚀刻液的“SUN-X 系列”。下面请由我为各位做“SUN-X 系列”的简单介绍。
 ☆ SUN-X系列基本原理
 1) 与环境保护相对应
 不使用IPA
 SUN-X 成分仅含低挥发性化合物与水
 ＜沸点＞

 →减少大气污染
 2) 高产量
 比较使用SUN-X和碱/IPA做硅片蚀刻时的代表性条件。
 ＜蚀刻液的使用条件＞

● 使用IPA时，会发生挥发，需要时时添加，无法保持一定的浓度。
 ● SUN-X 系列仅可用水稀释3倍。
 ● 与之前方法相比，蚀刻的处理时间有望是之前的一半以下。
 3）容易控制纹理形状、大小
 ● 一般而言，受光影响，硅片表面会吸收75%能量，反射25%能量。
 被反射的光再被旁边的纹理表面吸收。
 ● 高低纹理相连接，反射的光就不能被吸收而会损失。
 ● 虽然纹路小的纹理可以很好地吸收光，但俯视图可看到还是有一部分光损失于纹理中。
 ● 因此，纹理的形状和大小对吸收效果的好坏（提高低反射率）有很大的影响。使用SUN-X，可形成均匀的纹理。
 ● 分开使用药液，可调整纹理大小。
 ● 使用SUN-X 600 得到的纹理尺寸约为6～8 μm、使用SUN-X 1200得到的纹理尺寸约为12 μm。
蚀刻液与能量转换效率

● 与之前使用IPA/碱性时相比，可得到具有低反射率、高转换率的晶片。
 FUJIFILM Wako